Abatement and toxicity reduction of antimicrobials by UV/H<sub>2</sub>O<sub>2</sub> process.

Urbano, Vanessa Ribeiro; Peres, Marcela Souza; Maniero, Milena Guedes; Guimarães, José Roberto

Abatement and toxicity reduction of antimicrobials by UV/H₂O₂ process.

Urbano, Vanessa Ribeiro; Peres, Marcela Souza; Maniero, Milena Guedes; Guimarães, José Roberto.

Afiliação

Urbano VR; School of Civil Engineering, Architecture and Urban Design, University of Campinas, P.O. Box 6143, CEP 13083-889, Campinas, Brazil.
Peres MS; School of Civil Engineering, Architecture and Urban Design, University of Campinas, P.O. Box 6143, CEP 13083-889, Campinas, Brazil.
Maniero MG; School of Civil Engineering, Architecture and Urban Design, University of Campinas, P.O. Box 6143, CEP 13083-889, Campinas, Brazil.
Guimarães JR; School of Civil Engineering, Architecture and Urban Design, University of Campinas, P.O. Box 6143, CEP 13083-889, Campinas, Brazil. Electronic address: jorober@fec.unicamp.br.

J Environ Manage ; 193: 439-447, 2017 May 15.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-28242114

Assuntos

Fotólise; Raios Ultravioleta; Anti-Infecciosos; Peróxido de Hidrogênio; Oxirredução; Poluentes Químicos da Água/toxicidade

Palavras-chave

Advanced oxidation process; Antimicrobial activity; Ofloxacin; Peroxidation; Photolysis; Sulfaquinoxaline

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Fotólise / Raios Ultravioleta Idioma: En Revista: J Environ Manage Ano de publicação: 2017 Tipo de documento: Article País de afiliação: Brasil País de publicação: Reino Unido

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