Diffractive phase-shift lithography photomask operating in proximity printing mode.

Cirino, Giuseppe A; Mansano, Ronaldo D; Verdonck, Patrick; Cescato, Lucila; Neto, Luiz G

Cirino, Giuseppe A; Mansano, Ronaldo D; Verdonck, Patrick; Cescato, Lucila; Neto, Luiz G.

Afiliação

Cirino GA; CCET, Federal University of Sao Carlos, Rod. Whashington Luis, Km 235 - 13565-905, Sao Carlos, SP, Brazil. gcirino@ufscar.br

Opt Express ; 18(16): 16387-405, 2010 Aug 02.

Article em En | MEDLINE | ID: mdl-20721026

Assuntos

Simulação por Computador; Luz; Fotografação/métodos; Impressão/métodos; Algoritmos; Holografia/métodos

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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Impressão / Simulação por Computador / Fotografação / Luz Idioma: En Revista: Opt Express Assunto da revista: OFTALMOLOGIA Ano de publicação: 2010 Tipo de documento: Article País de afiliação: Brasil País de publicação: Estados Unidos

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