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The influence of the film thickness of nanostructured alpha-Fe2O3 on water photooxidation.
Souza, Flavio Leandro; Lopes, Kirian Pimenta; Longo, Elson; Leite, Edson Roberto.
Afiliação
  • Souza FL; LIEC-CDMDC, Department of Chemistry, UFSCar, São Carlos, SP, Rodovia Washington Luiz, km 235, C.P. 676, CEP 13565-905, São Carlos, SP, Brazil.
Phys Chem Chem Phys ; 11(8): 1215-9, 2009 Feb 28.
Article em En | MEDLINE | ID: mdl-19209365
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Texto completo: 1 Coleções: 01-internacional Base de dados: MEDLINE Assunto principal: Oxidantes Fotoquímicos / Água / Compostos Férricos / Nanoestruturas Idioma: En Revista: Phys Chem Chem Phys Assunto da revista: BIOFISICA / QUIMICA Ano de publicação: 2009 Tipo de documento: Article País de afiliação: Brasil País de publicação: Reino Unido
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