Aluminum doped zinc oxide deposited by atomic layer deposition and its applications to micro/nano devices.

Van Toan, Nguyen; Tuoi, Truong Thi Kim; Inomata, Naoki; Toda, Masaya; Ono, Takahito

Van Toan, Nguyen; Tuoi, Truong Thi Kim; Inomata, Naoki; Toda, Masaya; Ono, Takahito.

Afiliación

Van Toan N; Micro System Integration Center, Tohoku University, Sendai, Japan. nvtoan@nme.mech.tohoku.ac.jp.
Tuoi TTK; Department of Mechanical Systems Engineering, Tohoku University, Sendai, Japan.
Inomata N; Department of Mechanical Systems Engineering, Tohoku University, Sendai, Japan.
Toda M; Department of Mechanical Systems Engineering, Tohoku University, Sendai, Japan.
Ono T; Micro System Integration Center, Tohoku University, Sendai, Japan. ono@nme.mech.tohoku.ac.jp.

Sci Rep ; 11(1): 1204, 2021 Jan 13.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-33441961

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Sci Rep Año: 2021 Tipo del documento: Article País de afiliación: Japón Pais de publicación: Reino Unido

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