Electrical activity at the AlN/Si Interface: identifying the main origin of propagation losses in GaN-on-Si devices at microwave frequencies.

Bah, Micka; Valente, Damien; Lesecq, Marie; Defrance, Nicolas; Garcia Barros, Maxime; De Jaeger, Jean-Claude; Frayssinet, Eric; Comyn, Rémi; Ngo, Thi Huong; Alquier, Daniel; Cordier, Yvon

Bah, Micka; Valente, Damien; Lesecq, Marie; Defrance, Nicolas; Garcia Barros, Maxime; De Jaeger, Jean-Claude; Frayssinet, Eric; Comyn, Rémi; Ngo, Thi Huong; Alquier, Daniel; Cordier, Yvon.

Afiliación

Bah M; GREMAN UMR-CNRS 7347, Université de Tours, INSA Centre Val de Loire, 16 rue Pierre et Marie Curie, BP 7155, 37071, Tours Cedex 2, France.
Valente D; GREMAN UMR-CNRS 7347, Université de Tours, INSA Centre Val de Loire, 16 rue Pierre et Marie Curie, BP 7155, 37071, Tours Cedex 2, France.
Lesecq M; CNRS-IEMN - Université de Lille, UMR8520, Av. Poincaré, 59650, Villeneuve d'Ascq, France.
Defrance N; CNRS-IEMN - Université de Lille, UMR8520, Av. Poincaré, 59650, Villeneuve d'Ascq, France.
Garcia Barros M; CNRS-IEMN - Université de Lille, UMR8520, Av. Poincaré, 59650, Villeneuve d'Ascq, France.
De Jaeger JC; CNRS-IEMN - Université de Lille, UMR8520, Av. Poincaré, 59650, Villeneuve d'Ascq, France.
Frayssinet E; Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA, rue B. Gregory, 06560, Valbonne, France.
Comyn R; Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA, rue B. Gregory, 06560, Valbonne, France.
Ngo TH; Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA, rue B. Gregory, 06560, Valbonne, France.
Alquier D; GREMAN UMR-CNRS 7347, Université de Tours, INSA Centre Val de Loire, 16 rue Pierre et Marie Curie, BP 7155, 37071, Tours Cedex 2, France. daniel.alquier@univ-tours.fr.
Cordier Y; Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA, rue B. Gregory, 06560, Valbonne, France. yvon.cordier@crhea.cnrs.fr.

Sci Rep ; 10(1): 14166, 2020 Aug 25.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-32843709

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Sci Rep Año: 2020 Tipo del documento: Article País de afiliación: Francia Pais de publicación: Reino Unido

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