Clustered DNA Damages induced by 0.5 to 30 eV Electrons.

Zheng, Yi; Sanche, Léon

Zheng, Yi; Sanche, Léon.

Afiliación

Zheng Y; State Key Laboratory of Photocatalysis on Energy and Environment, Fuzhou University, Fuzhou 350116, China. Yizheng@fzu.edu.cn.
Sanche L; Département de Médecine Nucléaire et Radiobiologie et Centre de Recherche Clinique, Faculté de Médecine, Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1H 5N4, Canada.

Int J Mol Sci ; 20(15)2019 Jul 31.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-31370253

Asunto(s)

Antineoplásicos/química; ADN/efectos de la radiación; Electrones; Fármacos Sensibilizantes a Radiaciones/química; Bromouracilo/química; Carboplatino/química; Cisplatino/química; ADN/química; Roturas del ADN de Doble Cadena/efectos de la radiación; Células Eucariotas/química; Células Eucariotas/efectos de la radiación; Humanos; Oligonucleótidos/química; Oligonucleótidos/efectos de la radiación; Oxaliplatino/química; Plásmidos/química; Plásmidos/efectos de la radiación; Radiación Ionizante

Palabras clave

base modifications; clustered DNA damages; low-energy electrons; transient anions

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Fármacos Sensibilizantes a Radiaciones / ADN / Electrones / Antineoplásicos Límite: Humans Idioma: En Revista: Int J Mol Sci Año: 2019 Tipo del documento: Article País de afiliación: China Pais de publicación: Suiza

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