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Structural and Fluorine Plasma Etching Behavior of Sputter-Deposition Yttrium Fluoride Film.
Wang, Wei-Kai; Lin, Yu-Xiu; Xu, Yi-Jie.
Afiliación
  • Wang WK; Department of Materials Science and Engineering, Da-Yeh University, Changhua 51591, Taiwan. wk@mail.dyu.edu.tw.
  • Lin YX; Department of Materials Science and Engineering, Da-Yeh University, Changhua 51591, Taiwan. h63290@gmail.com.
  • Xu YJ; Department of Materials Science and Engineering, Da-Yeh University, Changhua 51591, Taiwan. pa821221@yahoo.com.tw.
Nanomaterials (Basel) ; 8(11)2018 Nov 14.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-30441787
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanomaterials (Basel) Año: 2018 Tipo del documento: Article País de afiliación: Taiwán Pais de publicación: Suiza
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