Fast turnaround fabrication of silicon point-contact quantum-dot transistors using combined thermal scanning probe lithography and laser writing. | Nanotechnology;29(50): 505302, 2018 Dec 14. | MEDLINE

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Fast turnaround fabrication of silicon point-contact quantum-dot transistors using combined thermal scanning probe lithography and laser writing.

Rawlings, Colin; Ryu, Yu Kyoung; Rüegg, Matthieu; Lassaline, Nolan; Schwemmer, Christian; Duerig, Urs; Knoll, Armin W; Durrani, Zahid; Wang, Chen; Liu, Dixi; Jones, Mervyn E.

Afiliación

Rawlings C; IBM Research-Zurich, Saeumerstrasse 4, 8803 Rueschlikon, Switzerland.

Nanotechnology ; 29(50): 505302, 2018 Dec 14.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-30248025

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2018 Tipo del documento: Article País de afiliación: Suiza Pais de publicación: Reino Unido

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