Nanoscale density variations induced by high energy heavy ions in amorphous silicon nitride and silicon dioxide. | Nanotechnology;29(14): 144004, 2018 Apr 06. | MEDLINE

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Nanoscale density variations induced by high energy heavy ions in amorphous silicon nitride and silicon dioxide.

Mota-Santiago, P; Vazquez, H; Bierschenk, T; Kremer, F; Nadzri, A; Schauries, D; Djurabekova, F; Nordlund, K; Trautmann, C; Mudie, S; Ridgway, M C; Kluth, P.

Afiliación

Mota-Santiago P; Department of Electronic Materials Engineering, Research School of Physics and Engineering, Australian National University, Canberra ACT 2601, Australia.

Nanotechnology ; 29(14): 144004, 2018 Apr 06.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-29384134

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2018 Tipo del documento: Article País de afiliación: Australia Pais de publicación: Reino Unido

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