Nanopatterning via Self-Assembly of a Lamellar-Forming Polystyrene-block-Poly(dimethylsiloxane) Diblock Copolymer on Topographical Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography.
Nanomaterials (Basel)
; 8(1)2018 Jan 09.
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| ID: mdl-29315245
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
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MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Nanomaterials (Basel)
Año:
2018
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Article
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Pais de publicación:
Suiza