Toward Practical, Subwavelength, Visible-Light Photolithography with Hyperlens. | ACS Nano;12(1): 542-548, 2018 01 23. | MEDLINE

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Toward Practical, Subwavelength, Visible-Light Photolithography with Hyperlens.

Sun, Jingbo; Litchinitser, Natalia M.

Afiliación

Sun J; Electrical Engineering Department, University at Buffalo, The State University of New York , Buffalo, New York 14260, United States.
Litchinitser NM; Electrical Engineering Department, University at Buffalo, The State University of New York , Buffalo, New York 14260, United States.

ACS Nano ; 12(1): 542-548, 2018 01 23.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-29281258

Palabras clave

demagnification; diffraction limit; hyperbolic metamaterial; hyperlens; multilayer; photolithography

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Nano Año: 2018 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Estados Unidos

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