Modelling focused electron beam induced deposition beyond Langmuir adsorption.

Sanz-Hernández, Dédalo; Fernández-Pacheco, Amalio

Sanz-Hernández, Dédalo; Fernández-Pacheco, Amalio.

Afiliación

Sanz-Hernández D; Cavendish Laboratory, University of Cambridge, JJ Thomson Cambridge, CB3 0HE, United Kingdom.
Fernández-Pacheco A; Cavendish Laboratory, University of Cambridge, JJ Thomson Cambridge, CB3 0HE, United Kingdom.

Beilstein J Nanotechnol ; 8: 2151-2161, 2017.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-29090116

Palabras clave

3D nanoprinting; BET model; Langmuir model; adsorption isotherm theory; continuum model; focused electron beam induced deposition

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Beilstein J Nanotechnol Año: 2017 Tipo del documento: Article País de afiliación: Reino Unido Pais de publicación: Alemania

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