Low-temperature atomic layer deposition delivers more active and stable Pt-based catalysts. | Nanoscale;9(30): 10802-10810, 2017 Aug 03. | MEDLINE

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Low-temperature atomic layer deposition delivers more active and stable Pt-based catalysts.

Van Bui, Hao; Grillo, Fabio; Kulkarni, Sri Sharath; Bevaart, Ronald; Van Thang, Nguyen; van der Linden, Bart; Moulijn, Jacob A; Makkee, Michiel; Kreutzer, Michiel T; van Ommen, J Ruud.

Afiliación

Van Bui H; Department of Chemical Engineering, Delft University of Technology, 2628 BL, Delft, The Netherlands. f.grillo@tudelft.nl.

Nanoscale ; 9(30): 10802-10810, 2017 Aug 03.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-28726943

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanoscale Año: 2017 Tipo del documento: Article País de afiliación: Países Bajos Pais de publicación: Reino Unido

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