A comprehensive model for sub-10 nm electron-beam patterning through the short-time and cold development. | Nanotechnology;28(42): 425301, 2017 Oct 20. | MEDLINE

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A comprehensive model for sub-10 nm electron-beam patterning through the short-time and cold development.

Chang, Li-Cheng; Nien, Chun; Ye, Jia-Hao; Chung, Cheng-Huan; Su, Vin-Cent; Wu, Chao-Hsin; Kuan, Chieh-Hsiung.

Afiliación

Chang LC; Graduate Institute of Electronics Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan, Republic of China.

Nanotechnology ; 28(42): 425301, 2017 Oct 20.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-28714459

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2017 Tipo del documento: Article País de afiliación: China Pais de publicación: Reino Unido

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