Comparison of diffraction patterns exposed by pulsed and CW lasers on positive-tone photoresist.
Appl Opt
; 56(8): 2241-2249, 2017 Mar 10.
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| ID: mdl-28375313
Texto completo:
1
Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Appl Opt
Año:
2017
Tipo del documento:
Article
Pais de publicación:
Estados Unidos