Your browser doesn't support javascript.
loading
"Click" Incorporation of Radical/Ionic Sites into a Reactive Block Copolymer: A Facile and On-Demand Domain Functionalization Approach toward Organic Resistive Memory.
Suga, Takeo; Aoki, Kohei; Yashiro, Toshiaki; Nishide, Hiroyuki.
Afiliación
  • Suga T; Waseda Institute for Advanced Study (WIAS), Waseda University, Tokyo, 169-8555, Japan.
  • Aoki K; Department of Applied Chemistry, Waseda University, Tokyo, 169-8555, Japan.
  • Yashiro T; Department of Applied Chemistry, Waseda University, Tokyo, 169-8555, Japan.
  • Nishide H; Department of Applied Chemistry, Waseda University, Tokyo, 169-8555, Japan.
Macromol Rapid Commun ; 37(1): 53-59, 2016 Jan.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-26583561

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Macromol Rapid Commun Año: 2016 Tipo del documento: Article País de afiliación: Japón Pais de publicación: Alemania

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Macromol Rapid Commun Año: 2016 Tipo del documento: Article País de afiliación: Japón Pais de publicación: Alemania