Permanent reduction of dissipation in nanomechanical Si resonators by chemical surface protection. | Nanotechnology;26(46): 465501, 2015 Nov 20. | MEDLINE

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Permanent reduction of dissipation in nanomechanical Si resonators by chemical surface protection.

Tao, Y; Navaretti, P; Hauert, R; Grob, U; Poggio, M.

Afiliación

Tao Y; Department of Physics, ETH Zurich, Otto Stern Weg 1, 8093 Zurich, Switzerland. Department of Chemistry, Massachusetts Institute of Technology, 77 Massachusetts Avenue, Cambridge MA 02139, USA.

Nanotechnology ; 26(46): 465501, 2015 Nov 20.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-26501931

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2015 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Reino Unido

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