Optimization of long-range order in solvent vapor annealed poly(styrene)-block-poly(lactide) thin films for nanolithography.

Baruth, A; Seo, Myungeun; Lin, Chun Hao; Walster, Kern; Shankar, Arjun; Hillmyer, Marc A; Leighton, C

Baruth, A; Seo, Myungeun; Lin, Chun Hao; Walster, Kern; Shankar, Arjun; Hillmyer, Marc A; Leighton, C.

Afiliación

Baruth A; Department of Chemical Engineering and Materials Science and Department of Chemistry, University of Minnesota , Minneapolis, Minnesota 55455-0431, United States.

ACS Appl Mater Interfaces ; 6(16): 13770-81, 2014 Aug 27.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-25029410

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Prognostic_studies / Qualitative_research Idioma: En Revista: ACS Appl Mater Interfaces Asunto de la revista: BIOTECNOLOGIA / ENGENHARIA BIOMEDICA Año: 2014 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Estados Unidos

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