Direct electroplating of copper on tantalum from ionic liquids in high vacuum: origin of the tantalum oxide layer.

Schaltin, Stijn; D'Urzo, Lucia; Zhao, Qiang; Vantomme, André; Plank, Harald; Kothleitner, Gerald; Gspan, Christian; Binnemans, Koen; Fransaer, Jan

Schaltin, Stijn; D'Urzo, Lucia; Zhao, Qiang; Vantomme, André; Plank, Harald; Kothleitner, Gerald; Gspan, Christian; Binnemans, Koen; Fransaer, Jan.

Afiliación

Schaltin S; KU Leuven-University of Leuven, Department of Metallurgy and Materials Engineering, Leuven, Belgium.

Phys Chem Chem Phys ; 14(39): 13624-9, 2012 Oct 21.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-22872155

Asunto(s)

Cobre/química; Líquidos Iónicos/química; Óxidos/química; Tantalio/química; Galvanoplastia; Estructura Molecular; Propiedades de Superficie; Vacio

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Óxidos / Tantalio / Cobre / Líquidos Iónicos Idioma: En Revista: Phys Chem Chem Phys Asunto de la revista: BIOFISICA / QUIMICA Año: 2012 Tipo del documento: Article País de afiliación: Bélgica Pais de publicación: Reino Unido

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