Continuous electrical tuning of the chemical composition of TaO(x)-based memristors. | ACS Nano;6(3): 2312-8, 2012 Mar 27. | MEDLINE

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Continuous electrical tuning of the chemical composition of TaO(x)-based memristors.

Miao, Feng; Yi, Wei; Goldfarb, Ilan; Yang, J Joshua; Zhang, Min-Xian; Pickett, Matthew D; Strachan, John Paul; Medeiros-Ribeiro, Gilberto; Williams, R Stanley.

Afiliación

Miao F; Hewlett-Packard Laboratories, 1501 Page Mill Road, Palo Alto, California 94304, USA.

ACS Nano ; 6(3): 2312-8, 2012 Mar 27.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-22324891

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Nano Año: 2012 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Estados Unidos

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