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Atom probe tomography characterization of thin copper layers on aluminum deposited by galvanic displacement.
Zhang, Yi; Ai, Jiahe; Hillier, Andrew C; Hebert, Kurt R.
Afiliación
  • Zhang Y; Department of Chemical and Biological Engineering, Iowa State University, Ames, Iowa 50011, United States.
Langmuir ; 28(3): 1673-7, 2012 Jan 24.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-22220909
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Langmuir Asunto de la revista: QUIMICA Año: 2012 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Estados Unidos
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