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Modeling of the carbon nanotube chemical vapor deposition process using methane and acetylene precursor gases.
Lysaght, Andrew C; Chiu, Wilson K S.
Afiliación
  • Lysaght AC; Department of Mechanical Engineering, University of Connecticut, 191 Auditorium Road, Storrs, CT 06269-3139, USA.
Nanotechnology ; 19(16): 165607, 2008 Apr 23.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-21825651
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Nanotechnology Año: 2008 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Reino Unido
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