Ultralarge-area block copolymer lithography enabled by disposable photoresist prepatterning.

Jeong, Seong-Jun; Moon, Hyoung-Seok; Kim, Bong Hoon; Kim, Ju Young; Yu, Jaeho; Lee, Sumi; Lee, Moon Gyu; Choi, Hwanyoung; Kim, Sang Ouk

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Ultralarge-area block copolymer lithography enabled by disposable photoresist prepatterning.

Jeong, Seong-Jun; Moon, Hyoung-Seok; Kim, Bong Hoon; Kim, Ju Young; Yu, Jaeho; Lee, Sumi; Lee, Moon Gyu; Choi, Hwanyoung; Kim, Sang Ouk.

Afiliación

Jeong SJ; Department of Materials Science and Engineering, KI for the Nanocentury, KAIST, Daejeon 305-701, Republic of Korea.

ACS Nano ; 4(9): 5181-6, 2010 Sep 28.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-20722433

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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: ACS Nano Año: 2010 Tipo del documento: Article Pais de publicación: Estados Unidos