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100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography.
Bourgin, Yannick; Jourlin, Yves; Parriaux, Olivier; Talneau, Anne; Tonchev, Svetlen; Veillas, Colette; Karvinen, Petri; Passilly, Nicolas; Md Zain, Ahmad R; De La Rue, Richard M; Van Erps, Jürgen; Troadec, David.
Afiliación
  • Bourgin Y; Université de Lyon, Laboratoire Hubert Curien, UMR CNRS 5516, Saint-Etienne, France.
Opt Express ; 18(10): 10557-66, 2010 May 10.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-20588908
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Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Refractometría / Fotograbar / Nanotecnología Idioma: En Revista: Opt Express Asunto de la revista: OFTALMOLOGIA Año: 2010 Tipo del documento: Article País de afiliación: Francia Pais de publicación: Estados Unidos
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