Enhancement of second-harmonic generation from silicon stripes under external cylindrical strain. | Opt Lett;34(21): 3340-2, 2009 Nov 01. | MEDLINE

Contenido principal 1 Búsqueda 2 Pie de página 3

+A A -A Alto contraste

Portal Regional de la BVS

Información y Conocimiento para la Salud

Localizar descriptor de asunto Búsqueda Avanzada EVID@Easy

Enhancement of second-harmonic generation from silicon stripes under external cylindrical strain.

Zhao, Ji-Hong; Chen, Qi-Dai; Chen, Zhan-Guo; Jia, Gang; Su, Wen; Jiang, Ying; Yan, Zhao-Xu; Dolgova, T V; Aktsipetrov, O A; Sun, Hong-Bo.

Afiliación

Zhao JH; State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin University, 2699 Qianjin Street, Changchun 130023, China.

Opt Lett ; 34(21): 3340-2, 2009 Nov 01.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-19881587

Añadir a Mi BVS

Buscar en Google

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Opt Lett Año: 2009 Tipo del documento: Article País de afiliación: China Pais de publicación: Estados Unidos

Añadir a Mi BVS

Buscar en Google

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Opt Lett Año: 2009 Tipo del documento: Article País de afiliación: China Pais de publicación: Estados Unidos