Detection and characterization of carbon contamination on EUV multilayer mirrors. | Opt Express;17(19): 16969-79, 2009 Sep 14. | MEDLINE

Contenido principal 1 Búsqueda 2 Pie de página 3

+A A -A Alto contraste

Portal Regional de la BVS

Información y Conocimiento para la Salud

Localizar descriptor de asunto Búsqueda Avanzada EVID@Easy

Detection and characterization of carbon contamination on EUV multilayer mirrors.

Chen, Juequan; Louis, Eric; Lee, Chris J; Wormeester, Herbert; Kunze, Reinhard; Schmidt, Hagen; Schneider, Dieter; Moors, Roel; van Schaik, Willem; Lubomska, Monika; Bijkerk, Fred.

Afiliación

Chen J; FOM-Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, Nieuwegein, The Netherlands. J.Chen@rijnhuizen.nl

Opt Express ; 17(19): 16969-79, 2009 Sep 14.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-19770915

Añadir a Mi BVS

Buscar en Google

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Diagnostic_studies Idioma: En Revista: Opt Express Asunto de la revista: OFTALMOLOGIA Año: 2009 Tipo del documento: Article País de afiliación: Países Bajos Pais de publicación: Estados Unidos

Añadir a Mi BVS

Buscar en Google

Texto completo: 1 Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Tipo de estudio: Diagnostic_studies Idioma: En Revista: Opt Express Asunto de la revista: OFTALMOLOGIA Año: 2009 Tipo del documento: Article País de afiliación: Países Bajos Pais de publicación: Estados Unidos