Accurate frequency alignment in fabrication of high-order microring-resonator filters.

Sun, Jie; Holzwarth, Charles W; Dahlem, Marcus; Hastings, Jeffrey T; Smith, Henry I

Sun, Jie; Holzwarth, Charles W; Dahlem, Marcus; Hastings, Jeffrey T; Smith, Henry I.

Afiliación

Sun J; Research Laboratory of Electronics, Massachusetts Institute of Technology, 77 Massachusetts Avenue, Cambridge, MA 02139, USA. sunjie@mit.edu

Opt Express ; 16(20): 15958-63, 2008 Sep 29.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-18825233

RESUMEN

Frequency mismatch in high-order microring-resonator filters is investigated. We demonstrate that this frequency mismatch is caused mainly by the intrafield distortion of scanning-electron-beam-lithography (SEBL) used in fabrication. The intrafield distortion of an SEBL system is measured, and a simple method is also proposed to correct this distortion. By applying this correction method, the average frequency mismatch in second-order microring-resonator filters was reduced from -8.6 GHz to 0.28 GHz.

Asunto(s)

Diseño de Equipo/instrumentación; Filtración/instrumentación; Óptica y Fotónica/instrumentación; Simulación por Computador; Diseño Asistido por Computadora/instrumentación; Electrones; Lentes; Microscopía Electrónica de Rastreo/instrumentación; Refractometría/instrumentación; Reproducibilidad de los Resultados; Transductores

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Diseño de Equipo / Óptica y Fotónica / Filtración Tipo de estudio: Prognostic_studies Idioma: En Revista: Opt Express Asunto de la revista: OFTALMOLOGIA Año: 2008 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Estados Unidos

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