4X reduction extreme ultraviolet interferometric lithography.

Isoyan, Artak; Wüest, A; Wallace, John; Jiang, Fan; Cerrina, Franco

Isoyan, Artak; Wüest, A; Wallace, John; Jiang, Fan; Cerrina, Franco.

Afiliación

Isoyan A; University of Wisconsin-Madison, Center for NanoTechnology, 425 Henry Mall, Suite 2130, Madison, WI, 53706, USA. isoyan@wisc.edu

Opt Express ; 16(12): 9106-11, 2008 Jun 09.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-18545622

Asunto(s)

Interferometría/instrumentación; Modelos Teóricos; Fotograbar/instrumentación; Refractometría/instrumentación; Sincrotrones/instrumentación; Simulación por Computador; Diseño de Equipo; Análisis de Falla de Equipo; Luz; Dispersión de Radiación; Rayos Ultravioleta

Buscar en Google

Añadir a Mi BVS

Imprimir

XML

PubMed Links

Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Refractometría / Fotograbar / Sincrotrones / Interferometría / Modelos Teóricos Idioma: En Revista: Opt Express Asunto de la revista: OFTALMOLOGIA Año: 2008 Tipo del documento: Article País de afiliación: Estados Unidos Pais de publicación: Estados Unidos

Buscar en Google

Añadir a Mi BVS

Imprimir

XML

PubMed Links