Investigation of a half-wave method for birefringence or thickness measurements of a thick, semitransparent, uniaxial, anisotropic substrate by use of spectroscopic ellipsometry.

Kildemo, M; Mooney, M; Sudre, C; Kelly, P V

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Investigation of a half-wave method for birefringence or thickness measurements of a thick, semitransparent, uniaxial, anisotropic substrate by use of spectroscopic ellipsometry.

Kildemo, M; Mooney, M; Sudre, C; Kelly, P V.

Afiliación

Kildemo M; National Microelectronics Research Center (NMRC), Lee Maltings, Prospect Row, Cork, Ireland. morten.kildemo@phys.ntnu.no

Appl Opt ; 39(25): 4649-57, 2000 Sep 01.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-18350056

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: Appl Opt Año: 2000 Tipo del documento: Article País de afiliación: Irlanda Pais de publicación: Estados Unidos

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