Oxidation mechanism of As(III) in the UV/TiO2 system: evidence for a direct hole oxidation mechanism.

Yoon, Sung-Hwan; Lee, Jai H

Yoon, Sung-Hwan; Lee, Jai H.

Afiliación

Yoon SH; Department of Environmental Science and Engineering, Gwangju Institute of Science and Technology, 1 Oryong-Dong, Buk-Gu, Gwangju 500-712, South Korea.

Environ Sci Technol ; 39(24): 9695-701, 2005 Dec 15.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-16475354

Asunto(s)

Arsénico/química; Oxidantes Fotoquímicos/química; Titanio/química; Rayos Ultravioleta; Purificación del Agua/métodos; Adsorción; Compuestos de Alumbre/química; Catálisis; Cloruros; Compuestos Férricos/química; Peróxido de Hidrógeno/química; Radical Hidroxilo/química; Oxidación-Reducción; Oxígeno/química; Fotoquímica; Factores de Tiempo

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Oxidantes Fotoquímicos / Arsénico / Titanio / Rayos Ultravioleta / Purificación del Agua Idioma: En Revista: Environ Sci Technol Año: 2005 Tipo del documento: Article País de afiliación: Corea del Sur Pais de publicación: Estados Unidos

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