Structural and optical properties of silicon nanocrystals grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition.

Prakash, G V; Daldosso, N; Degoli, E; Iacona, F; Cazzanelli, M; Gaburro, Z; Pucker, G; Dalba, P; Rocca, F; Ceretta Moreira, E; Franzò, G; Pacifici, D; Priolo, F; Arcangeli, C; Filonov, A B; Ossicini, S; Pavesi, L

Prakash, G V; Daldosso, N; Degoli, E; Iacona, F; Cazzanelli, M; Gaburro, Z; Pucker, G; Dalba, P; Rocca, F; Ceretta Moreira, E; Franzò, G; Pacifici, D; Priolo, F; Arcangeli, C; Filonov, A B; Ossicini, S; Pavesi, L.

Afiliación

Prakash GV; INFM, Dipartimento di Fisica, Università di Trento, via Sommarive 14, 38050, Povo, Trento, Italy.

J Nanosci Nanotechnol ; 1(2): 159-68, 2001 Jun.

Article en En | MEDLINE | ID: mdl-12914047

Asunto(s)

Cristalización/métodos; Modelos Moleculares; Nanotecnología/métodos; Dióxido de Silicio/química; Silicio/química; Simulación por Computador; Gases/química; Calor; Luminiscencia; Conformación Molecular; Oxígeno/química; Silicio/aislamiento & purificación; Silicio/efectos de la radiación; Dióxido de Silicio/aislamiento & purificación; Dióxido de Silicio/efectos de la radiación; Análisis Espectral; Propiedades de Superficie; Volatilización; Difracción de Rayos X

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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Asunto principal: Silicio / Modelos Moleculares / Dióxido de Silicio / Cristalización / Nanotecnología Tipo de estudio: Evaluation_studies / Prognostic_studies Idioma: En Revista: J Nanosci Nanotechnol Año: 2001 Tipo del documento: Article País de afiliación: Italia Pais de publicación: Estados Unidos

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