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Near-field optical photomask repair with a femtosecond laser.
Lieberman, K; Shani, Y; Melnik, I; Yoffe, S; Sharon, Y.
Afiliación
  • Lieberman K; Nanonics Lithography Ltd., Malcha, Jerusalem, Israel. klony@netvision.net.il
J Microsc ; 194(Pt 2-3): 537-41, 1999.
Article en En | MEDLINE | ID: mdl-11388302
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Colección: 01-internacional Base de datos: MEDLINE Idioma: En Revista: J Microsc Año: 1999 Tipo del documento: Article País de afiliación: Israel Pais de publicación: Reino Unido
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