Determination of dynamic parameters controlling atomic scale etching of Si(100)-(2 x 1) by chlorine.
Phys Rev Lett
; 74(11): 2014-2017, 1995 Mar 13.
Article
en En
| MEDLINE
| ID: mdl-10057820
Buscar en Google
Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Phys Rev Lett
Año:
1995
Tipo del documento:
Article
Pais de publicación:
Estados Unidos