Self-aligned sources for dislocation nucleation: The key to low threading dislocation densities in compositionally graded thin films grown at low temperature.
Phys Rev Lett
; 72(6): 876-879, 1994 Feb 07.
Article
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| ID: mdl-10056557
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Colección:
01-internacional
Base de datos:
MEDLINE
Idioma:
En
Revista:
Phys Rev Lett
Año:
1994
Tipo del documento:
Article
Pais de publicación:
Estados Unidos